Berechnung des seitlichen Umweges

In den Richtlinien ist die Berechnung des seitlichen Umweges für Industriequellen lediglich für die 1-fach Schirmung beschrieben. LIMA verarbeitet auch Schirmkombinationen.
Bei Schirmkombinationen ist die Annahme eines horizontalen seitlichen Umweges nicht unbedingt sinnvoll. In LIMA wird deshalb zunächst unter verschiedenen Neigungswinkeln der kürzeste Umweg gesucht.

A zeigt ein Ergebnis mit seitlichem Umweg
B zeigt ein Ergebnis ohne seitlichen Umweg
C zeigt die energetische Differenz
D zeigt das Berechnungsmodell

C zeigt den Anteil der seitlichen Beugung für Einzelschirme, verkettete Schirme, Gebäude und Schirmkombinationen. Gemäß Richtlinie wird in Teilbereichen kein seitlicher Umweg berücksichtigt, da die vertikale Schirmwirkung sehr viel kleiner ist als die seitliche Schirmwirkung.


Diffraction around both sides of an obstacle

Diffraction around both Sides of an Obstacle

Commonly there will be a combination of obstacles between the emitter and the point of interest. When calculating sideways diffraction, LIMA will work out the shortest roundabout way for a number of different cutting planes. Combined obstacles can be processed as well.

The figure shows the effect of sideways diffraction:
A shows the results including sideways diffraction and vertical propagation
B shows the results of vertical propagation
C shows the energetic difference A-B
D shows the model situation

The white areas in C are produced due to the regulations defining cases in which no sideways diffraction is to be calculated or the maximum degree of attenuation is reached.